گزارش کار جذب سطحی
گزارش کار جذب سطحی
گزارش کار جذب سطحی
فصل اول : ساختارهای دورآلاییده..................................................................... 1
مقدمه ........................................................................ 2
1-1 نیمه رسانا.............................................................. 3
1-2 نیمه رسانا با گذار مستقیم و غیر مستقیم.......................................................................... 4
1-3 جرم موثر................................................ 4
1-4 نیمه رسانای ذاتی................................................................. 6
1-5 نیمه رسانای غیر ذاتی و آلایش.................................. 7
1-6 نیمه رساناهای Si و Ge ...................................................................... 10
1-7 رشد بلور ....................................................................... 13
1-7-1 رشد حجمی بلور.............................................................. 15
1-7-2 رشد رونشستی مواد....................................................... 15
1-7-3 رونشستی فاز مایع ............................................... 16
1-7-4 رونشستی فاز بخار.......................................................... 18
1-7-5 رونشستی پرتو مولکولی .................................................... 19
1-8 ساختارهای ناهمگون....................................................... 20
1-9 توزیع حالتهای انرژی الکترونها در چاه کوانتومی........................................................ 21
1-10 انواع آلایش..................................................................... 23
1-10-1 آلایش کپهای........................................................................ 24
1-10-2 آلایش مدوله شده (دورآلاییدگی)................................................................................. 24
1-10-3 گاز الکترونی دوبعدی ...................................................... 25
1-10-4 گاز حفرهای دوبعدی.................................................... 26
1- 11 ویژگی و انواع ساختارهای دور آلاییده ........................................................................... 27
1-11-1 انواع ساختارهای دورآلاییده بهلحاظ ترتیب رشد لایهها ....................................... 27
1-11-2 انواع ساختار دور آلاییده به لحاظ نوع آلاییدگی ( n یا p ).................................. 28
1-11-3 انواع ساختار دور آلاییده دریچهدار............................................................................... 29
1-12 کاربرد ساختارهای دور آلاییده................................................. 33
1-12-1 JFET.................................................................................................................................... 33
1-12-2 MESFET ................................................................... 34
1-12-3 MESFET پیوندگاه ناهمگون ........................................................................................ 35
فصل دوم : اتصال فلز نیمه رسانا (سد شاتکی)................................................................... 38
مقدمه ................................................................................ 39
2-1 شرط ایده آل و حالتهای سطحی ......................................................................................... 41
2-2 لایه تهی ..................................................................................... 44
2-3 اثر شاتکی .................................................................. 47
2-4 مشخصه ارتفاع سد.............................................................. 51
2-4-1 تعریف عمومی و کلی از ارتفاع سد.................................................................................. 51
2-4-2 اندازه گیری ارتفاع سد.................................................... 57
2-4-3 اندازه گیری جریان – ولتاژ............................................ 57
2-4-4 اندازه گیری انرژی فعال سازی......................................... 60
2-4-5 اندازه گیری ولتاژ- ظرفیت....................................... 60
2-4-6 تنظیم ارتفاع سد ...................................................... 62
2-4-7 کاهش سد ..................................................................... 62
2-4-8 افزایش سد.................................................................... 63
2-5 اتصالات یکسوساز . ............................................................. 64
2-6 سدهای شاتکی نمونه ................................................................ 64
فصل سوم : انتقال بار در ساختارهای دورآلاییده............................................... 66
مقدمه.................................................................................. 67
3-1 ساختار دور آلاییده معکوس p-Si/Si1-XGeX/Si ............................................................. 68
3-2 ساختار نوار ظرفیت ساختار دور آلاییده معکوسp-Si/SiGe/Si................................... 69
3-3 محاسبه انتقال بار در ساختارهای دور آلاییده.................................................................... 71
3-3-1 آلایش مدوله شده ایدهآل.............................................. 71
3-3-2 محاسبات خود سازگار چگالی سطحی حاملها ............................................................. 74
3-3-3 اثر بارهای سطحی بر چگالی گاز حفرهای .................................................................... 74
3-4 روشهای کنترل چگالی سطحی حاملها ............................................................................... 76
3-4-1 تاثیر تابش نور بر چگالی سطحی حاملها ...................................................................... 77
3-4-2 تاثیر ضخامت لایه پوششی بر چگالی سطحی حاملها................................................. 78
3-4-3 دریچه دار کردن ساختار دور آلاییده ............................................................................. 79
3-5 ساختارهای دورآلاییده معکوس p-Si/SiGe/Si با دریچه بالا ............... 79
3-6 انتقال بار در ساختارهای دورآلاییده معکوس با دریچه بالا............................................. 82
3-7 تاثیر بایاسهای مختلف بر روی چگالی سطحی حفرهها .................................................. 83
3-8 ملاحظات تابع موج.................................................................................................................... 86
3-9 وابستگی Zav به چگالی سطحی حاملها در ساختارهای بی دریچه............................... 87
3-10 وابستگی Zav به چگالی سطحی حاملها در ساختارهای دریچهدار............................. 87
فصل چهارم : نتایج محاسبات .................................................................................................. 89
مقدمه...................................................................................................................................................... 90
4-1 محاسبات نظری ساختارهای دورآلاییده بی دریچه Si/SiGe/Si ................................. 91
4-1-1 محاسبات نظری ns برحسب Ls ...................................................................................... 91
4-1-2 محاسبات نظری ns برحسب NA ................................................................................... 96
4-1-3 محاسبات نظری ns برحسب nc ....................................................................................... 99
4-1-4 محاسبات نظری کلیه انرژیهای دخیل برحسب Ls .................................................... 100
4-2 محاسبات نظری ساختارهای دورآلاییده دریچهدار Si/SiGe/Si .................................. 100
4-2-1 محاسبات نظری ns برحسب vg ....................................................................................... 100
4-2-2 بررسی نمونه ها با nsur متغیر و تابعی خطی از vg با شیب مثبت ......................... 107
4-2-3 بررسی نمونه ها با nsur متغیر و تابعی خطی از vg با شیب منفی.......................... 114
فصل پنجم : نتایج............................................................. 124
5-1مقایسه سد شاتکی با ساختار دورآلاییده دریچه دار p-Si/SiGe/Si ............................. 125
5-2 بررسی نمودارهای مربوط به چهار نمونه ............................................................................ 125
پیوست ................................................................ 129
چکیده انگلیسی (Abstract) ..................................................... 139
منابع.......................................................... 141
چکیده
در ساختارهای Si/SiGe/Si که بوسیله روش رونشانی پرتو مولکولی رشد مییابند به دلیل ناپیوستگی نوار ظرفیت یک چاه کوانتومی در نوار ظرفیت و در لایه SiGe شکل میگیرد اگر لایههای مجاور با ناخالصیهای نوع p آلاییده شده باشند حفرههای لایه آلاییده به داخل چاه کوانتومی میروند و تشکیل گاز حفرهای دوبعدی در میانگاه نزدیک لایه آلاییده میدهند اینگونه ساختارها را ساختار دورآلاییده می نامند .به دلیل جدایی فضایی بین حاملهای آزاد دوبعدی و ناخالصیهای یونیده در ساختارهای دورآلاییده برهمکنش کولنی کاهش یافته و درنتیجه پراکندگی ناشی از ناخالصیهای یونیده کاهش و به تبع آن تحرکپذیری حاملهای آزاد دوبعدی افزایش مییابد .چگالی سطحی گاز حفرهای دوبعدی به پارامترهای ساختار مثلاً ضخامت لایه جداگر ، چگالی سطحی بارهای لایه پوششی ، ضخامت لایه پوششی ، و غیره وابسته است. علاوه بر این در ساختارهای دورآلاییده دریچهدار با تغییر ولتاِژ دریچه چگالی سطحی گاز حفرهای قابل کنترل میباشد . این ساختارها در ساخت ترانزیستورهای اثر میدانی مورد استفاده قرار میگیرند .
در این پایان نامه ابتدا به تشریح ساختار دورآلاییده Si/SiGe/Siمیپردازیم و سپس مدلی نظری که بتواند ویژگیهای الکتریکی گاز حفرهای دوبعدی درون چاه کوانتومی ساختارp-Si/SiGe/Si و همچنین میزان انتقال بار آزاد به درون چاه و بستگی آن به پارامترهای ساختار را توجیه کند ارائه می دهیم . در ساختار دورآلاییده معکوس p-Si/SiGe/Si دریچهدار با دریچه Al/Ti/Si از این مدل نظری استفاده میکنیم و با برازش نتایج تجربی تغییرات چگالی سطحی گاز حفرهای بر حسب ولتاژ دریچه توانستهایم چگالی سطحی بارهای میانگاه Ti/Si در این ساختارها را در محدوده (m-2) 1015 × 78/1 تا (m-2) 1015 × 63/4 ارزیابی کنیم .
فرمت فایل : WORD (قابل ویرایش)تعداد صفحات:90
چکیده :
طرح استفاده از الیاف نساجی ترموپلاستیک شکل گرفته است ، کاربرد جدیدی از نانو ساختارهای سطحی یک نمونه از رول امباسینگ شکل گرفته در جایی که یک فلز انعطاف پذیر برجسته که طرح در سطح آن برروی یک سیلندر فلزی سوار شده است با تنظیم دقیق پارامترهای فرآیند، شبکه های دورهای با جزئیات واحد زیر بوده انتقال پیدا میکند ،برروی الیاف پلی استر با قطر 180 میکرومتر .
کلمات کلیدی : رول امباسینگ ، قالب ترموپلاستیک ، الیاف نساجی .
1- مقدمه :
بسیاری از پیشرفت های تکنولوژی تولید الیاف مصنوعی مبنی بر توسعه ( تغییر ) در سطح الیاف می باشد [1] در بیشتر موارد الیاف پروفیلی ( سطح مقطع غیر دایرهای ) به وسیله نازل اسپینرت ، به ایجاد یک سطح پروفیلی در طی ریسندگی لیف می انجامد به هر حال این تکنولوژی 2 اشکال دارد :
در نتیجه بسیاری از اثرات مبنی بر سطوح نانو ساختاری نمی تواند کاربردی موثر داشته باشد با تولید برجستگی هایی در موقعیت مکانیی دلخواه ( پروفیل افقی ) مشخصات مهم سطح الیاف ، ممکن است در محدودة وسیعی بهبود پیدا کند (گسترش پیدا کند )
نمونه های امکان پذیر عبارتند از :
با استفاده از رول امباسینگ(همچنین وب امباسینگ نامیده می شود ) ( به شکل 1 توجه کنید )
دانلود فایل پاورپوینت با موضوع کشش سطحی آب که شامل 63 اسلاید میباشد:
نوع فایل : PowerPoint
این فایل پاورپوینت که با زحمت فراوان توسط متخصصان و پژوهشگرانمان گرداوری، تایپ و تدوین شده ،جهت یادگیری سریع ، ارایه و کنفرانس و... در خدمت شما دانشجویان و اساتید محترم خواهد بود.
*هدف ما راحتی شماست*